中美科技對話升溫 黃仁勳強調中國市場潛力巨大

▲中國貿促會會長任鴻斌在北京與黃仁勳舉行會談。（圖／翻攝央視新聞）

記者楊庭蒝／綜合報導

美國晶片大廠輝達（Nvidia）總裁暨執行長黃仁勳於17日晚間在北京人民大會堂會見中國國務院副總理何立峰。雙方就中美經貿關係及科技產業合作深入交流，展現持續拓展合作空間的意願。

何立峰強調，中國市場投資和消費潛力巨大，產業轉型升級加快推進，是新一輪科技革命和產業變革的最佳應用場景，始終是外資企業投資和貿易的沃土。他歡迎包括輝達在內的美資企業持續深耕中國，充分發揮產業優勢，搶占全球競爭先機。

黃仁勳則表示，他對中國經濟前景抱持高度信心，輝達願意深化與中國的合作關係，繼續投入資源拓展在地業務，為推動中美經貿與科技交流發揮積極作用。

據英國《金融時報》報導，黃仁勳此次北京行也與中國AI公司DeepSeek創辦人梁文鋒會面，探討在雙邊監管條件下設計新一代晶片，以更符合中國市場的需求。

央視旗下「玉淵譚天」公眾號指出，黃仁勳此行是應中國貿促會邀請，為他3個月內第二次訪華。在與中國貿促會會長任鴻斌的會談中，他表示中國是輝達極為重要的市場，並稱中國的產業生態與領先軟體技術是公司創新的驅動力。

面對美國政府針對輝達對華出口晶片的限制，特別是H20產品的出口許可新規，黃仁勳坦言相關政策對公司營運已造成重大影響。H20為輝達在2023年10月美方新出口限制後，特別針對中國市場推出的降級版本。