洩密2奈米技術!台積電3內鬼工程師「供詞前後不一」 延押2個月

▲▼台積電3內鬼工程師,左起戈一平、陳力銘、吳秉駿。(圖/記者呂佳賢攝)

▲台積電3內鬼工程師,左起戈一平、陳力銘、吳秉駿。(圖/記者呂佳賢攝)

記者黃哲民、劉人豪/台北報導

從台積電離職後到日商設備大廠工作的工程師陳力銘,勾結仍在台積電的2名工程師吳秉駿、戈一平,大量翻拍2奈米製程機密,8月底被檢方依照違反《國家安全法》起訴。起訴後移審智財商業法院,法院裁定自9月1日起羈押3個月,由於羈押期即將屆滿,智慧財產及商業法院認為3人曾供詞前後不一、湮滅證據,今(25)日裁定自12月1日起,延長羈押禁見2月。

台積電內部調查出時任台積電竹科廠吳姓2名工程師,勾結已離職的陳姓前工程師,違法取得屬於國家關鍵秘密技術的2奈米晶片製成技術機密,並洩漏給國外競爭對手,台積電遂將仍在職的2人解職,並向台高檢智財分署提出告訴,由智財分署檢察官指揮調查局新竹巿調查站、資訊安全工作站及北部機動工作站偵辦。

檢調自7月25至28日陸續傳喚、拘提陳男、吳男共3人及搜索住所,檢察官訊後認為,陳男3人涉犯《國安法》、《營業秘密法》等罪嫌提起公訴。其中檢方對陳男具體求處有期徒刑14年,對吳男具體求處有期徒刑9年,對戈男具體求處有期徒刑7年。

由於羈押期即將屆滿,法院認為3人雖坦承犯行,但對於所涉犯罪情節、手段、目的之供詞,確曾前後所述不一,且3人在案發後均有刪除通訊軟體對話紀錄之疑似湮滅證據舉措,而此類犯罪事實調查,需勾稽比對相關通訊軟體對話紀錄、電磁紀錄與共犯間供述,釐清確認全案犯罪細節,原羈押原因現仍存在,裁定自12月1日起,延長羈押禁見2月。

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※ 資料來源:內政部警政署165打詐儀錶板

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