陸大學校長畢典致辭 意外證實「自研光刻機」能穩定產7奈米晶片

▲中國同濟大學校長、中國科學院院士楊金龍。（圖／翻攝自同濟大學官網）

記者趙蔡州／綜合報導

為了降低半導體光刻機（曝光機）的對外依賴，中國近年持續投入大量資金研發國產光刻機。中國同濟大學校長、中國科學院院士楊金龍近日在同濟大學畢業典禮致辭時，意外透露中國國產光刻機已可以穩定生產7奈米晶片。

畢典談校友事蹟　揭露光刻機研發成果

綜合陸媒報導，楊金龍14日在同濟大學畢業典禮上表示，同濟大學校友賀榮明畢業後，懷著科技報國理想，攜手許多科研工作者開啟國產光刻機自主研發之路，從零建立起自主技術體系，攻克精密光學、超精密運動控制等多項技術難題，歷經數十年研發後，如今成果斐然。

楊金龍說，團隊研發的先進光刻機在國內市場占有率超80%、國際占比33%，穩居全球前列，2025年5月，團隊自研的首台氟化氬（ArF）浸沒式光刻機交付中芯國際，搭配多重曝光工藝，可穩定支撐7nm及以上芯片制程生產，打破了國外高端光刻設備領域的長期壟斷。

楊金龍指出，賀榮明後來受訪時曾說，回望艱辛攻堅路，他們就是這麼一步一步，帶著一腔熱血，帶著對國家的熱愛、對高科技的摯愛，走過來的。他希望以賀榮明的事蹟為例子，祝福學子就算身處困頓之中，依然要堅持下去，歷經挫折、磨礪，依舊不滅心中火種、不改執著初心

7奈米被視關鍵門檻　良率仍受外界關注

台積電前董事長劉德音曾說，7奈米製程是半導體製造的分水嶺，應用在許多領域中，像是5G，微處理器，顯示卡、網路、遊戲、車用、資料中心等，7奈米與14奈米最大的差異在於單位面積電晶體數增加幅度大，耗能降低且最有經濟效益。

不過外媒《路透社》今年3月時曾報導，中芯國際是中國大陸唯一擁有7奈米技術的廠商，但良率始終很低。