解決晶片光刻機「卡脖子」難題 北京清大SSMB最新研究出爐

▲光刻機的製造對於大陸發展晶片事業,扮演關鍵角色。(圖/翻攝騰訊新聞)

▲光刻機的製造在大陸發展晶片事業中,扮演關鍵角色。(圖/翻攝騰訊新聞)

記者魏有德/綜合報導

北京清華大學工程物理系教授唐傳祥研究組與國外合作團隊昨(25)日在《自然》(Nature)上發表《穩態微聚束原理的實驗演示》的研究論文,完成一種新型粒子加速器光源「穩態微聚束」(SSMB)的首個原理驗證實驗。唐傳祥認為,基於SSMB的EUV光源,將有望解決自主研發晶片光刻機中最核心的「卡脖子」難題。

▲▼海思,半導體,晶片。(圖/視覺中國)

▲北京清大團隊研究的「穩態微聚束」,將是解決大陸製造光刻機「卡脖子」問題。(圖/視覺中國)

《北京青年報》報導,在晶片製造的產業鏈中,光刻機是必不可少的精密設備,是集成電路晶片製造中最複雜和關鍵的工藝步驟。光刻機的曝光分辨率與波長直接相關,半個多世紀以來,光刻機光源的波長不斷縮小,晶片業界公認的新一代主流光刻技術是採用波長為13.5奈米光源的EUV(極紫外光源)光刻。

▲▼半導體,研究,晶片。(圖/視覺中國)

▲大陸最好的光刻機為上海公司生產的90奈米光刻機。(圖/視覺中國)

荷蘭ASML公司是目前世界上唯一的EUV光刻機供應商,每台EUV光刻機售價超過1億美元。不過,大陸受限於《瓦聖納協定》,ASML至今沒有發出EUV光刻機出口的許可證,至於中階光刻機出口大陸也有附加條款,禁止給大陸自主CPU代工,以至於目前大陸最好的光刻機,僅為上海生產的90奈米光刻機。

唐傳祥認為,EUV光刻機的自主研發仍有很長的路要走,但基於SSMB的EUV光源,有望解決自主研發光刻機中最核心的「卡脖子」難題,「這需要持續科技攻關,也需要上下游產業鏈的配合,才能獲得真正成功。」

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